優しく戦うＵＶ
ノンケミカルで高保湿
“優しく戦うUV”
HMプロテクトUVベース
[日焼け止めメイク下地]
・・・
肌表面にベールをつくり、外的刺激
（花粉・ちり・ほこり）から
肌をプロテクト。
肌トーンをアップしながら、
保湿効果で1日中ハリとツヤが
溢れる肌へ
商品特徴
こんなお悩みありませんか？
「顔がムズムズする」「肌がカサカサ」「顔がかゆい」。そんな悩みを解決！プロテクトUVベースは、薄いベールで肌を包み、季節や環境、マスクトラブルなどの肌リスクから365日肌を守ります。
花粉・チリ・ほこりから肌をプロテクト
日本初！ＵＶ下地にアレルＧプラス※1を配合。肌の表面にベールをつくり外的刺激から肌をプロテクト。
日焼け止め効果
毎日安心して使える「SPF30 PA++」紫外線吸収剤不使用のノンケミカル処方で低刺激。デイリーな紫外線対策としてご使用いただけます。
化粧下地効果
薄付きでしっかり伸び、補正効果で肌トーンアップ・毛穴カバーサポート。一日中化粧くずれのない透明感のあるツヤ肌を保ちます。
※1：成分名…モンモリロナイト
HOW TO USE
-
朝のお手入れの最後に、適量（パール大一個分目安）を手に取ります。
-
顔全体にムラなく伸ばしてください。
（使用量が少ないと、充分な紫外線防止効果が得られません。）
SKIN & MIND CHECK
肌と心は一心同体
スキンケアは肌と心との会話です。
一つでも当てはまる項目がある方に、
「プロテクトＵVベース」をオススメします。
SKIN
- □ チリやホコリなど外的刺激から守りたい
- □ 365日UVケアをしたい
- □ 季節で肌コンディションが不安定になる
- □ 日中の乾燥を防ぎたい
- □ メイクのりをよくして、トーンアップしたい
MIND
- □ 食生活が乱れがち
- □ 睡眠不足になる日が多い
- □ 毎日忙しく感じている
- □ リフレッシュできる場面がほしい
- □ 気持ちよく1日を終えたい
使用方法
朝のお手入れの最後に、適量を手のひらの取り、ムラなくのばしてください。使用量が少ないと、充分な紫外線防止効果が得られません。
全成分
シクロペンタシロキサン、水、酸化亜鉛、ＢＧ、酸化チタン、ポリグリセリル－３ポリジメチルシロキシエチルジメチコン、ステアリン酸、水酸化Ａｌ、ヒアルロン酸Ｎａ、加水分解ヒアルロン酸、アセチルヒアルロン酸Ｎａ、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコン、ジメチコン、ジステアルジモニウムヘクトライト、ＰＥＧ－１０ジメチコン、ジメチコンクロスポリマー、 （ジメチコン／（ＰＥＧ－１０／１５））クロスポリマー、カプリル酸グリセリル、モンモリロナイト、ツボクサエキス、イタドリ根エキス、オウゴン根エキス、カンゾウ根エキス、チャ葉エキス、カミツレ花エキス、ローズマリー葉エキス、シリカ、ヒドロキシアパタイト、塩化Ｎａ、エチルヘキシルグリセリン
HMプロテクトUVベース
[日焼け止めメイク下地]