translation missing: ja.general.skip_link

カート

カートは空です。
ショッピングを続ける.
8,000円(税込)以上お買い上げで送料無料!

HMプロテクトUVベース
(日焼け止め化粧下地)30g

肌表面にベールをつくり、外的刺激(花粉・チリ・ほこり)から肌をプロテクト。 365日安心して使えるSPF30・PA++
補正効果で肌をトーンアップしながら、保湿効果で1日中ツヤとハリが溢れる肌へ。メイクオフをした際、疲労感のない素肌を実感してください。

DETAILS
DETAILS
  • 日本初!UV下地にアレルGプラス※1を配合。肌の表面にベールをつくり外的刺激から肌をプロテクト。
  • 毎日安心して使えるSPF30 PA++ 紫外線吸収剤不使用のノンケミカル処方で低刺激。デイリーな紫外線対策としてご使用いただけます。
  • 薄付きでしっかり伸び、補正効果で肌トーンアップ・毛穴カバーサポート。一日中化粧くずれのない透明感のあるツヤ肌を保ちます。
APPLICATION
APPLICATION
朝のお手入れの最後に、適量を手のひらの取り、ムラなくのばしてください。使用量が少ないと、充分な紫外線防止効果が得られません。
INGREDIENTS
INGREDIENTS
シクロペンタシロキサン、水、酸化亜鉛、BG、酸化チタン、ポリグリセリル-3ポリジメチルシロキシエチルジメチコン、ステアリン酸、水酸化Al、ヒアルロン酸Na、加水分解ヒアルロン酸、アセチルヒアルロン酸Na、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコン、ジメチコン、ジステアルジモニウムヘクトライト、PEG-10ジメチコン、ジメチコンクロスポリマー、 (ジメチコン/(PEG-10/15))クロスポリマー、カプリル酸グリセリル、モンモリロナイト、ツボクサエキス、イタドリ根エキス、オウゴン根エキス、カンゾウ根エキス、チャ葉エキス、カミツレ花エキス、ローズマリー葉エキス、シリカ、ヒドロキシアパタイト、塩化Na、エチルヘキシルグリセリン

シェアする

Pin